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激光剥蚀进样-光谱元素分析系统
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美国
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产品简介

工作原理

激光剥蚀技术LA及激光诱导击穿光谱LIBS相结合,J200接收等离子体发射光进行快速光谱分析,同时将激光剥蚀颗粒高效传输至ICP-MS系统。

主要特点:

J200具有LALIBS双系统测量能力,可以单独运行LA LIBS,或者同时运行LA- LIBS复合系统。激光fs ns可选。

样品自动对焦、高度自动调整、光斑大小调节。

可对固、液、气样品进行全元素LIBS快速检测,同时可将固体样品的剥蚀颗粒或者液体样品直接送入ICP-MS系统,实现ppb级精确分析。

可用于分析元素周期表中的所有元素。

ASI数据分析软件可在一个数据分析平台进行,分析LIBSLA数据;可进行快速映射功能。

应用领域

复杂样本的定性和定量分析

制造质量控制:制药、生物技术、电子、太阳能、薄膜等

污染控制

土壤、植物和矿物分析

玻璃、油漆和其他痕迹证据的法医分析

材料来源确定

学术界、政府和商业企业研究和实验室分析

性能指标

激光系统

**能量

25mJ@ 266nm;能量输出 0-100%可调

重现率

20Hz,脉宽<6ns(FWHM),DI 水冷却系统

能量控制

光学衰减连续可变

光斑大小控制

35-250 微米可调(到达样品表面的烧蚀光斑直径)

激光光闸

自动双光闸,稳定控制激光能量和 LIBS 信号测量

激光安全

I 级,样品放置区域有滤光器,有激光锁定保护

检测器系统

谱宽190-1040 nm

测量过程不不受环境温度变化的影响

分辨率λ/Δλ高达 6000

光谱精度优于±0.05nm

杂散光抑制

探测器门控

门延时0.5ns-1ms

分辨率 0.5 ns

样品平台系统

全自动 XYZ 行程

XY 行程 100mmx100mm,Z 行程 35mm

XY 行程分辨率 0.2um,Z 行程分辨率 0.2um

XY 行程重现率 0.2um,Z 行程重现率 0.2um

速度 0.001-20 mm/s

气压可控

样品放置区域有滤光器,有激光锁定保护功能

含高效空气颗粒清洁器

具备专配 670 纳米激光协助样品高度自动调整功能

双 CMOS 相机,广角用于定位采样区域,高倍成像用于观察某一特定区域。并可在电脑屏幕上实时观察样品烧蚀过程

样品池-可充氦气或氩气惰性气体保护;锂电池样品需要保持在无水,无氧的条件下进行测量。测量碳,氮,氧,氢,氟等元素时;样品池需要保持在氦气气氛中。

操作软件

激光自动采样设置

单点、网格、光栅状、线性扫描或用户自定义设置

数据处理系统

包含谱线自动识别功能、光谱处理功能、LIBS 的强度监测、化学统计功能等

元素制图及深度分析控制

包含84种元素的Trulibs™光谱数据库和LIBS NIST 理论数据库(涵盖所有元素)

设置预脉冲个数用来清洗样品表面污染物

高度自动化的测量功能

元素特征线的自动标定、标准曲线建立(单变量和多变量校准曲线)、主成分回归功能可用于样品分类

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